Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Etching and Chemical Control of the Silicon Nitride Surface
XX
BSO - Titre
Etching and Chemical Control of the Silicon Nitride Surface
XX
DOI
DOI
10.1021/acsami.6b12880
XX
DOAI
DOAI
10.1021/acsami.6b12880
XX
Identifiant WoS
WOS:000392909500122
XX
Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
ACS - American Chemical Society
XX
Source
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
XX
ISSN
1944-8244
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
5 - Exceptionnelle
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
INP - Institut de physique
XX
uid:/LJ2RNXQ4
12/10/2021 14:52:35 (latest)
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